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    3. 光催化反應裝置哪家好

             為控制藥物中遺傳毒性雜質潛在的致癌風險,2020版中國藥典四部通則部分,添加了《9306 遺傳毒性雜質控制指導原則》。這個新的指導原則為藥品標準制修訂、上市藥品安全性再評估提供參考。 藥物雜質包括有機雜質、光催化反應裝置無機雜質以及殘留溶劑等等。其中,2006年提出的基因毒性雜質是近兩年關注的熱門。該雜質又叫遺傳毒性雜質(genotoxic impurities, GTIs),是指能引起遺傳毒性的雜質。包括直接或間接損傷細胞DNA產生致突變和致癌作用的物質,也包括其他類型無致突變性雜質。 EMEA和FDA發布了相應的指南。2007年歐洲藥品局EMEA實施了關于基因毒性雜質的解決方案。2008美國FDA發布了《Guidance for industry—Genotoxic and Carcinogenic Impurities in Drug Substances and Products: Recommended Approaches》 對于未知數據的基因毒性雜質,制定了相關攝入閾值TCC(Threshold of Toxicological Concern,毒性物質限量)光催化反應裝置,也叫做毒理學關注閾值。其意義在于最大程度上保證服藥的安全,使致突變的風險低于相關限度。TTC的限度為1.5 μg/d。 著作權歸作者所有。

      除非注明,發表在“光催化反應器”的儀器信息『光催化反應裝置的實驗流程』版權歸光催化反應器_admin所有。 轉載請注明出處為“本文轉載于『光催化反應器』原地址http://www.jualhadroh.com/post/404.html

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